圖1.?原位薄膜GISAXS系統(tǒng)圖2.?雙離子束濺射示意圖?此套解決方案，主要用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜生長(zhǎng)以優(yōu)化沉積過程。薄膜生長(zhǎng)的原位GISAXS測(cè)量目前主要通過同步輻射實(shí)現(xiàn)。本系統(tǒng)與客戶的雙離子束濺射裝置完美匹配，在普通實(shí)驗(yàn)室就可進(jìn)行相關(guān)測(cè)量，靈活性極高。?核心部件光源：Incoatec的IμS，Cu?靶Kα輻射，探測(cè)器：Dectris混合像素單光子計(jì)
此套解決方案，主要用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜生長(zhǎng)以優(yōu)化沉積過程。薄膜生長(zhǎng)的原位GISAXS測(cè)量目前主要通過同步輻射實(shí)現(xiàn)。本系統(tǒng)與客戶的雙離子束濺射裝置完美匹配，在普通實(shí)驗(yàn)室就可進(jìn)行相關(guān)測(cè)量，靈活性極高。
核心部件
光源：Incoatec的IμS，Cu 靶Kα輻射;
探測(cè)器：Dectris混合像素單光子計(jì)數(shù)二維X射線探測(cè)器Pilatus 200K。
無散射針孔;
beamstop
其中，專用于小角散射的IμS微焦源，發(fā)散角小，亮度高；且可被靈活準(zhǔn)確的移動(dòng)/轉(zhuǎn)動(dòng)，這對(duì)準(zhǔn)確調(diào)整掠入射角度非常重要。
圖1. 原位薄膜GISAXS系統(tǒng)
圖2. 雙離子束濺射示意圖
全球首套實(shí)驗(yàn)室級(jí)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜生長(zhǎng)的掠入射小角散射(GISAXS)系統(tǒng)。曝光時(shí)間僅為8s，入射角調(diào)到與臨界角接近，可以達(dá)到實(shí)時(shí)沉積的亞單層靈敏度。
圖3（a）. GISAXS原位測(cè)量的薄膜倒晶格空間
圖3（b）.臨界角處qy的時(shí)間演變