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行業(yè)資訊

  • 使用抗輻射聚合物制造的X射線折射光學(xué)元件（CRL）

    Author：Josephine Gutekunst1, Joachim Schulz12, Arndt Last21Microworks GmbH, Karlsruhe, Germany2 KIT / IMT, Karlsruhe, Germany一RefractionX射線折射 — 一項(xiàng)特殊的技術(shù)挑戰(zhàn)與可見光不同，X 射線光子的短波長(zhǎng)或高能量會(huì)導(dǎo)致與原子核附近的電子相互作用，而不是與原子之間的

    2024-11-18 Cavan

  • 傳感器制造中常見的半導(dǎo)體材料及應(yīng)用概覽-PART.1

    隨著科技的快速發(fā)展，半導(dǎo)體傳感器以其高靈敏度、低成本、小型化和集成化等優(yōu)點(diǎn)，正在各個(gè)領(lǐng)域中發(fā)揮著越來越重要的作用。本文將介紹傳感器制造中常見的四種半導(dǎo)體材料以及它們的相關(guān)應(yīng)用。此篇介紹第一種材料-硅。1硅傳感器的生產(chǎn)制造200mm的硅晶圓正在進(jìn)入退火爐硅是對(duì)人類最有用的元素之一，因?yàn)榻^大多數(shù)半導(dǎo)體器件都是以硅為基礎(chǔ)制成的。目前，相較其他傳感器材料而言，硅它可以制成更大的晶圓，具有更好的價(jià)格優(yōu)勢(shì)同時(shí)

    2024-11-18 Cavan

  • 會(huì)議預(yù)告-PRORA Berlin 2024 ? X射線分析及其工業(yè)應(yīng)用頂級(jí)會(huì)議

    從回收和環(huán)境分析到 X 射線成像的突破，PRORA 是德國(guó)工業(yè)技術(shù)創(chuàng)新的中心。今年的 X 射線分析會(huì)議將有來自研究機(jī)構(gòu)、大學(xué)和工業(yè)公司的演講和海報(bào)投稿，除了經(jīng)驗(yàn)豐富的同行，眾多專業(yè)學(xué)生和年輕科學(xué)家也都受邀參加。本次會(huì)議將再次舉辦工業(yè)展覽，邀請(qǐng)了 X 射線分析設(shè)備和配件制造商以及相應(yīng)技術(shù)的用戶進(jìn)行展示。本次，德國(guó)深耕X射線領(lǐng)域的廠商均報(bào)名參與本次會(huì)議，包括SPECTRO AnalyticalInst

    2024-11-13 Cavan

  • 新篇章！瑞士領(lǐng)先的納米光學(xué)器件制造商XRnanotech收購Microworks公司

    Breaking News!本月，來自瑞士領(lǐng)先的納米技術(shù)光學(xué)器件制造商XRnanotech正式宣布完成對(duì)Microworks的收購！這一戰(zhàn)略性的舉措不僅標(biāo)志著兩家公司在各自領(lǐng)域內(nèi)的重大突破，更是將XRnanotech在納米技術(shù)領(lǐng)域的開創(chuàng)性進(jìn)展與Microworks在微米領(lǐng)域的尖端優(yōu)勢(shì)進(jìn)行了完美融合。從此，雙方將攜手并進(jìn)，共同突破科技的界限，為全球客戶帶來從微米到納米尺度的全方位解決方案。作為XRn

    2024-10-28 Cavan

  • 所見即所得：混合光子計(jì)數(shù)探測(cè)器—您的調(diào)光神器

    調(diào)光系統(tǒng)結(jié)構(gòu)不緊湊，調(diào)光步驟復(fù)雜，調(diào)光存在安全隱患……你還在用傳統(tǒng)的平板探測(cè)器調(diào)光嗎？那你真的有必要知道這款由捷克Advacam公司提供的像素化的小型混合光子計(jì)數(shù)探測(cè)器MiniPIX，它具有單光子靈敏和能量閾值設(shè)定等特點(diǎn)，可以同時(shí)獲得光斑的位置、尺寸和強(qiáng)度分布信息，體積僅有U盤大小，讓你從此告別復(fù)雜的低靈敏的光路調(diào)節(jié)。圖1 MiniPIX探測(cè)器實(shí)物圖經(jīng)過多年的市場(chǎng)和實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，MiniPIX在實(shí)現(xiàn)光

    2024-10-18 Cavan

  • 顯微知著，啟迪未來 - 2024全國(guó)電子顯微學(xué)學(xué)術(shù)年會(huì)將于東莞盛大召開

    CLICK點(diǎn)擊藍(lán)字 關(guān)注我們?cè)谛沦|(zhì)生產(chǎn)力創(chuàng)新起主導(dǎo)作用的今天，顯微學(xué)人以振興電子顯微學(xué)事業(yè)發(fā)展為己任，瞄準(zhǔn)國(guó)家重大需求和國(guó)際前沿科學(xué)問題，不斷為我國(guó)卡脖子難題的攻克貢獻(xiàn)中國(guó)電子顯微學(xué)者不可或缺的重要力量。本屆電子顯微學(xué)學(xué)術(shù)年會(huì)將展示顯微學(xué)相關(guān)理論、儀器制造、技術(shù)和實(shí)驗(yàn)方法的最新進(jìn)展，意在促進(jìn)電鏡及其他顯微學(xué)儀器的運(yùn)行、管理、維護(hù)、開放共享，實(shí)驗(yàn)平臺(tái)的建設(shè)和發(fā)展的交流。眾星將在本次大會(huì)上帶來在EM

    2024-10-18 Cavan

  • 新的X射線世界紀(jì)錄：以4nm的分辨率觀察微芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu)

    Paul Scherrer Institute (PSI) 的研究人員與洛桑聯(lián)邦理工學(xué)院、蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院和南加州大學(xué)合作，利用 X 射線技術(shù)取得了重大突破。利用PSI 瑞士光源 SLS 發(fā)出的 X 射線，并采用由瑞士XRnanotech公司提供的最外環(huán)寬度為30nm，高度為400nm的FZP（菲涅爾波帶片）聚焦，以前所未有的高分辨率觀察了微芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了4nm的圖像分辨率，創(chuàng)下了新的世界

    2024-10-18 Cavan

  • 一款用于EUV光化檢測(cè)的光源

    掩膜檢測(cè)的重要性掩膜檢查在半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要，特別是在光刻過程中，掩膜（也稱為光掩膜）用于將電路圖案轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體晶圓上。 1. 圖案準(zhǔn)確性關(guān)鍵尺寸（CD， critical dimention）控制：掩膜定義了轉(zhuǎn)移到晶圓上的特征。掩膜中的任何缺陷或偏差都可能導(dǎo)致晶圓上的特征尺寸不準(zhǔn)確，從而影響最終半導(dǎo)體器件的性能。套準(zhǔn)精度：掩膜在曝光過程中必須與晶圓精確對(duì)準(zhǔn)。即使是輕微的錯(cuò)位也會(huì)導(dǎo)致套準(zhǔn)誤差，影

    2024-10-18 Cavan

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