背景：

由于小角散射對電子密度的不均勻性特別敏感，凡是存在納米尺度的電子不均勻區(qū)域的物質(zhì)均會產(chǎn)生小角散射現(xiàn)象，使其成為該尺度（幾納米到一百納米）物質(zhì)結構的重要而理想的工具之一。

核心部件：

光源：Liquid-Metal-Jet (Excillum),Ga靶Kα輻射;

鏡片：Montel Optics (Incoatec);

針孔：Scaterless Pinholes (Incoatec);

探測器：Vantec-2000 (Bruker AXS)

圖1 SAXS和GISAXS 實驗方案示意圖

圖2 搭配Excillum液態(tài)金屬流微焦源的Nanostar

實驗結果：

圖3 正己烷中分散的膠體金納米粒子的 (a) 小角散射圖樣和 (b) 平均徑向強度分布圖

圖4 單層金納米粒子沉積在硅基體上的 (a) 掠入射小角圖樣和 (b) qy=0.7nm-1時水平截面

圖5 (a) 在未拉伸的聚酯薄膜上單層金納米粒子小角散射圖樣 (b) 在拉伸18%的聚酯薄膜上單層金納米粒子的小角散射圖樣

小結：該方案實現(xiàn)了通過小角散射(SAXS)和掠入射小角散射(GISAXS)的方式在納米尺度的過程進行原位監(jiān)測。