如此輕松！30分鐘快速搭建X射線相襯、暗場(chǎng)成像光柵裝置
模塊化 高性?xún)r(jià)比 X射線相襯 暗場(chǎng)成像套件
與傳統(tǒng)的X射線吸收成像相比，X射線相位襯度成像能夠?yàn)檩p元素樣品提供更高的襯度，特別適合用于對(duì)軟組織和輕元素構(gòu)成的樣品進(jìn)行成像。
目前主要存在5類(lèi)相襯成像方式，他們大部分對(duì)光源的相干性要求極高，只能在同步輻射光源或者借助微焦點(diǎn)X射線源實(shí)現(xiàn)。而光柵法相襯成像，經(jīng)過(guò)十多年的發(fā)展，已經(jīng)成為在實(shí)驗(yàn)室實(shí)施相襯成像實(shí)驗(yàn)的主流技術(shù)路線。
但是，高深寬比和大視場(chǎng)光柵的制作一直是困擾研究人員的一個(gè)痛點(diǎn)，LIGA技術(shù)的出現(xiàn)及成熟，使得此類(lèi)光柵的制作變得更加的容易及可靠。
基于X射線相襯成像的光柵利用Talbot自成像效應(yīng)來(lái)獲取有關(guān)X射線因折射和散射而產(chǎn)生的微小角度偏轉(zhuǎn)的信息。這在醫(yī)學(xué)成像和材料研究等各個(gè)領(lǐng)域都有潛在的應(yīng)用。
但是對(duì)于剛進(jìn)入這一研究領(lǐng)域的科研工作者或者單純想快速獲得相襯圖片的用戶(hù)來(lái)說(shuō)，繁瑣的光柵參數(shù)模擬、全新開(kāi)模制作光柵價(jià)格昂貴、精密平移臺(tái)的選擇及精密調(diào)節(jié)都將耗費(fèi)大量的精力。
為了解決這個(gè)問(wèn)題，德國(guó)microworks公司推出了一套模塊化、高性?xún)r(jià)比的X射線相襯、暗場(chǎng)成像套件-TALINT EDU。
-TALINT套件-
Microworks的TALINT EDU系統(tǒng)是一款結(jié)構(gòu)緊湊、物美價(jià)廉的TALbot干涉儀套件。它是X射線Talbot-Lau干涉儀的巧妙簡(jiǎn)化形式，包括了建立和微調(diào)干涉儀所有必要的硬件，通過(guò)相位步進(jìn)步驟來(lái)獲得三種成像模式應(yīng)用：吸收成像、相襯成像和暗場(chǎng)成像。
使用者可以在不到半小時(shí)的時(shí)間內(nèi)快速組裝。對(duì)于這個(gè)簡(jiǎn)化的系統(tǒng)來(lái)說(shuō)，圖像采集是手動(dòng)的，在相位步進(jìn)過(guò)程中獲得的圖像非常適合于圖像分析科學(xué)家。
- TALINT EDU包裝一覽 -
Talint-EDU 套件主要參數(shù)
套件規(guī)格
| 套件尺寸 | 60cm x15cm x20cm |
| 安裝 | EDU套件底板為M6螺孔，孔間距25mm的面包板，可安裝于用戶(hù)的光學(xué)平臺(tái)或任何適合 25mm 間距的裝置 |
| G0-G1和G1-G2距離 | 29cm，通過(guò)精密定位銷(xiāo)固定；對(duì)稱(chēng)安裝 |
| 方案1：所有3個(gè)光柵角靈敏度的設(shè)計(jì)能量周期（光柵周期超過(guò)光柵間距） | 40 keV 6.0 μm 21 μrad |
| 方案2：所有3個(gè)光柵角靈敏度的設(shè)計(jì)能量周期 | 21 keV 4.8 μm 16 μrad |
| 典型值>15% |
光柵組選項(xiàng) （含3塊光柵）
| 標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格參數(shù) | 設(shè)計(jì)能量-40 keV | 設(shè)計(jì)能量-21 keV |
| 光柵周期（3塊） | 6.00μm | 4.80μm |
| G0 G2 吸收材料及高度 | 金＞150μm | 金＞50μm |
| G0 G2 光柵占空比 | 0.55（容差范圍0.5-0.6） | 0.55（容差范圍0.5-0.6） |
| G0 G2 光柵襯底 | 石墨 400μm | 石墨 400μm |
| G1 相移材料及高度 | Gold 7.7 μm (40 keV) | Nickel 7.4 μm (21 keV) |
| G1 光柵占空比 | 0.5（容差范圍0.45-0.55） | 0.5（容差范圍0.45-0.55） |
| G1 光柵基底 | 硅 200μm | 硅 200μm |
| 視場(chǎng)范圍（樣品） | 35mm | 35mm |
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應(yīng)用示例
1. CFRP拉伸試驗(yàn)試棒
吸收像
相位像
暗場(chǎng)像
- 相襯成像增強(qiáng)了空腔折射信號(hào)的成像襯度
- 暗場(chǎng)成像增強(qiáng)了由纖維束引起的散射信號(hào)的成像襯度
2. 裂紋損傷
吸收像 暗場(chǎng)像
- 暗場(chǎng)成像增強(qiáng)了發(fā)絲狀裂紋散射信號(hào)的成像襯度
3. 3D打印鈦波紋管
照片
吸收像
暗場(chǎng)像
- 暗場(chǎng)成像增強(qiáng)了殘留粉末散射信號(hào)的成像襯度
Microworks 代理產(chǎn)品
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德國(guó)Microworks公司基于及獨(dú)特的LIGA技術(shù)，向廣大科研用戶(hù)提供定制化的微結(jié)構(gòu)加工服務(wù)。其中，它的X射線透射光柵在相襯成像領(lǐng)域，有著極高的聲譽(yù)。
北京眾星聯(lián)恒科技有限公司作為Microworks公司中國(guó)區(qū)授權(quán)總代理商，為中國(guó)客戶(hù)提供Microworks所有產(chǎn)品的售前咨詢(xún)，銷(xiāo)售及售后服務(wù)。我司始終致力于為廣大科研用戶(hù)提供專(zhuān)業(yè)的EUV、X射線產(chǎn)品及解決方案。如果您有任何問(wèn)題，歡迎聯(lián)系我們進(jìn)行交流和探討。