多毛細管光學(xué)器件的傳輸效率極大程度上取決于X射線源。由于光學(xué)器件的視場有限，只能在其輸入焦點處捕捉來自極小區(qū)域的X射線。對于高能X射線，由于多毛細管的視場隨X射線能量增加而減小，光源尺寸的影響尤為顯著。

在常規(guī)分析應(yīng)用中，平衡光學(xué)性能、X射線管最大功率負載、緊湊性及價格因素后，<100至200微米的X射線源尺寸最為適宜。

為充分利用上述X射線源的小焦斑特性，多毛細管的輸入端需緊鄰光源放置，以獲得較大的收集角?，F(xiàn)代微焦點X射線管普遍提供了合理的最小物距，大約在10至30毫米間，足以使多毛細管靠近以達最優(yōu)性能。

此外，從實際應(yīng)用出發(fā)，用戶還需考慮在源與多毛細管間留出空間安裝安全快門和初級濾光片。設(shè)定多毛細管光學(xué)器件的理想輸入焦距時，應(yīng)使光學(xué)器件的輸入焦斑尺寸與感興趣X射線能量下的源尺寸相匹配。期望的X射線源的最小物距應(yīng)短于這一理想值。

雖然在多毛細管光學(xué)器件與X射線管配合時偏好小尺寸源 ，但必須考慮X射線管的最大功率負載。多數(shù)情況下，系統(tǒng)設(shè)計的終極目標是實現(xiàn)多毛細管輸出端X射線強度的最大化。

X射線密封管的最大功率負載一般遵循每微米（焦斑直徑）負載1瓦的準則。這意味著，小焦斑X射線源的最大功率負載低于大焦斑X射線源。結(jié)合多毛細管的傳輸效率與X射線管的最大功率負載，最小源尺寸未必總是系統(tǒng)設(shè)計的最佳選擇。

XOS擁有一套強大的模擬工具，可在系統(tǒng)性能層面模擬性能，實現(xiàn)光學(xué)設(shè)計的最優(yōu)化。

通過精心考量上述要點，不僅能夠提升多毛細管X射線光學(xué)器件的性能，還能確保整個系統(tǒng)的高效穩(wěn)定運行，為您的科學(xué)研究或工業(yè)應(yīng)用帶來前所未有的精度與效率。

要實現(xiàn)多毛細管光學(xué)器件的最大性能，必須校準其與X射線源的位置。

然而，由于陽極靶材溫度變化及X射線管設(shè)計原因，光源的微小漂移都會影響理想的校準狀態(tài)。盡管在大多數(shù)傳統(tǒng)X射線系統(tǒng)中，源位置的小幅漂移不是問題，但對于基于多毛細管的系統(tǒng)，輸出光束的穩(wěn)定性非常重要。例如，僅20微米的源位置漂移就可能導(dǎo)致光輸出強度下降10%。但是目前市面上的X射線管，位置穩(wěn)定性通常未被列為關(guān)鍵技術(shù)指標。如上所述，對于使用基于多毛細管系統(tǒng)的用戶來說，應(yīng)予以重視。

基于多毛細管光學(xué)的系統(tǒng)可應(yīng)用于多種場景，其中 X射線熒光(XRF) 和 X射線衍射(XRD) 最為普遍的應(yīng)用。對于XRF應(yīng)用而言，對輸出X射線發(fā)散角并無特定要求，因此用戶可根據(jù)需求自由選擇X射線管。盡管微焦點X射線管通常是首選，但即便是具有較大源尺寸的傳統(tǒng)X射線源，在配合多毛細管光學(xué)后，相較于無光學(xué)系統(tǒng)的配置，仍能顯著提升性能。

而在采用多毛細管光學(xué)的XRD系統(tǒng)中，對X射線管的技術(shù)要求更為嚴格，特別是當需要小且平行的輸出光束時。此時，光學(xué)器件與X射線源的緊密耦合變得至關(guān)重要。

正確選擇X射線源對于優(yōu)化多毛細管光學(xué)系統(tǒng)性能至關(guān)重要。源尺寸、最小物距、最大功率負載、位置穩(wěn)定性以及特定應(yīng)用場景需求，所有這些因素都需細致考量，以確保達到期望的分析效果。

與我們的專家團隊合作，不僅能確保系統(tǒng)設(shè)計與性能的最優(yōu)化，還能獲得寶貴的指導(dǎo)建議。歡迎對多毛細管光學(xué)器件感興趣的朋友聯(lián)系我們。

多毛細管光學(xué)器件憑借其獨特性能，能捕獲X射線源產(chǎn)生的寬固體角射線，并將其匯聚至微米級焦點或高度準直的光束中。與傳統(tǒng)針孔準直器相比，這類光學(xué)器件實現(xiàn)的X射線強度提升了幾倍，顯著增強了檢測靈敏度、空間分辨率、測量速度及精度。