產(chǎn)品介紹：
多層反射鏡質(zhì)量高，所以一直被世界上的研究機構(gòu)所選用。本公司定制多層材料和結(jié)構(gòu)，滿足用戶的基板、峰值波長、帶寬和分散體等詳細規(guī)格。還應(yīng)對耐高溫多層反射鏡。利用同步加速器設(shè)備的反射率評估服務(wù)也可作為選項提供。
XUV多層反射鏡（EUV多層反射鏡）
基板形狀：平面、凸形、凹形、拋物面、超環(huán)面、橢圓面
基板材料：石英、硅、zero dewer等
多層膜材料：Mo/Si（50eV至100eV）、Ru/Si（50eV至100eV）、Zr/Al（50eV至70eV）、SiC/Mg（25eV至50eV）、Cr/C（至300eV）等
基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米（標準值為1英寸）
產(chǎn)品示例
Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米（90電子伏）波長的高反射率。Mo/Si多層反射鏡具有高達70％的正入射反射率。
XUV反射鏡的材料、膜結(jié)構(gòu)和基板形狀可以定制以滿足用戶有關(guān)中心波長和光學(xué)裝置的需求。
Φ10毫米平面反射鏡 |
測量的Mo/Si多層的反射率 （正入射角：2度） |
用于泵浦探測試驗的多層反射鏡 |
測量寬帶反射鏡、 |
EUV寬帶橢圓面反射鏡 | |
規(guī)格參數(shù)：
| No | Design name | AOI | pol. | Peake nergv | Reflectivity | Bandwidth(FWHM) | ||
1 | BBR-85.31.7 | 5 deg | s | 85 eV | 14.6 nm | 3.8% | 31.7 eV | (5.7nm) |
2 | BBR-80-30 | 5 deg | s | 80 eV | 15.5 nm | 5.1% | 30 eV | (6.1 nm) |
3 | BBR-75-28.5 | 5 deg | s | 75 eV | 13.8 nm | 6.6% | 28.5 eV | (6.6 nm) |
4 | BBR-70-27 | 5 deg | s | 70 eV | 17.7 nm | 8.1% | 27 eV | (7.3 nm) |
5 | BBR-65-25.5 | 5 deg | s | 65 eV | 19.1 nm | 9.3% | 25.5 eV | (8 nm) |
6 | BBR-60-24 | 5 deg | s | 60 eV | 20.7 nm | 9.8% | 24 eV | (8.6 nm) |
7 | UBBR-55-39 | 5 deg | s | 55 eV | 22.5 nm | 6.8% | 39 eV | (16.3 nm) |
8 | UBBR-50-34 | 5 deg | s | 50 eV | 24.8 nm | 6.7% | 34 eV | (18.6 nm) |
典型應(yīng)用：
天文學(xué)
XUV光電子光譜
XUV顯微
EUV光刻
等離子體物理
阿秒科學(xué)
規(guī)格參數(shù)：
| No | Design name | AOI | pol. | Peake nergv | Reflectivity | Bandwidth(FWHM) | ||
1 | BBR-85.31.7 | 5 deg | s | 85 eV | 14.6 nm | 3.8% | 31.7 eV | (5.7nm) |
2 | BBR-80-30 | 5 deg | s | 80 eV | 15.5 nm | 5.1% | 30 eV | (6.1 nm) |
3 | BBR-75-28.5 | 5 deg | s | 75 eV | 13.8 nm | 6.6% | 28.5 eV | (6.6 nm) |
4 | BBR-70-27 | 5 deg | s | 70 eV | 17.7 nm | 8.1% | 27 eV | (7.3 nm) |
5 | BBR-65-25.5 | 5 deg | s | 65 eV | 19.1 nm | 9.3% | 25.5 eV | (8 nm) |
6 | BBR-60-24 | 5 deg | s | 60 eV | 20.7 nm | 9.8% | 24 eV | (8.6 nm) |
7 | UBBR-55-39 | 5 deg | s | 55 eV | 22.5 nm | 6.8% | 39 eV | (16.3 nm) |
8 | UBBR-50-34 | 5 deg | s | 50 eV | 24.8 nm | 6.7% | 34 eV | (18.6 nm) |
天文學(xué)
XUV光電子光譜
XUV顯微
EUV光刻
等離子體物理
阿秒科學(xué)