常規(guī)X射線成像很大程度上依靠便捷的工具來評估各檢測系統(tǒng)的性能，也就是分辨率測試卡。Yxlon International和Microworks現在已經簽署了一項許可協(xié)議，Microworks將把與Yxlon International共同開發(fā)的分辨率測試卡商業(yè)化，并面向全球市場。該分辨率測試卡使用了Microworks在高縱橫比精細結構制備上積累多年的X射線光刻經驗，提供了17個測試區(qū)域，布局如下
常規(guī)X射線成像很大程度上依靠便捷的工具來評估各檢測系統(tǒng)的性能，也就是分辨率測試卡。Yxlon International和Microworks現在已經簽署了一項許可協(xié)議，Microworks將把與Yxlon International共同開發(fā)的分辨率測試卡商業(yè)化，并面向全球市場。該分辨率測試卡使用了Microworks在高縱橫比精細結構制備上積累多年的X射線光刻經驗，提供了17個測試區(qū)域，布局如下?？梢詸z測0.3μm到5um的分辨率，并采用了厚度超過3μm的金作為吸收材料，以獲得更好的X射線襯度對比。
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1、The Devil is in the Details-多功能X射線光束測試卡的結構及使用方法
分辨率測試卡參數
掃描電子顯微鏡（SEM）圖像顯示了測試圖案的精確尺寸，在x射線圖像中可以清楚地看到150nm的間隙
外形尺寸 | 8 mm x 8 mm chip size |
材料 | 基底：200 μm硅 吸收體：3 μm高金 |
線/空間寬度公差 | +/- 10% |
圖案線寬 | 5.0, 4.0, 3.2, 2.5, 2.0, 1.6, 1.3, 1.0, 0.9, 0.8, 0.7, 0.6, 0.5, 0.45, 0.4, 0.35, 0.3 |
Yxlon標準分辨率測試卡（眾星聯(lián)恒）-2025-3-21.pdf
可用于x射線管焦點光斑尺寸的測量，光斑尺寸可達100nm。 遵從 prEN 12453-6、prEN 12453-7標準。
外形尺寸 | 10 mm x 10 mm基片 尺寸: 40 mm x 30 mm x 5 mm 支架含藍寶石窗口 |
材料 | 基底: 200 μm硅 吸收體: 8 μm高金 |
線/空間寬度公差 | Tolerance: +/- 15% |
圖案線寬 | 4象限區(qū)域，每個區(qū)域4 mm x 4 mm，含兩個改良的西門子星，孔陣列（最小孔徑5微米），7組有不同方向的線對（12 μm, 10 μm, 8 μm, 6 μm, 5 μm, 4 μm, and 3 μm） |
NanoXSpot分辨率測試卡（眾星聯(lián)恒）-2025-3-21.pdf
多功能X射線光束測試卡由在 2.4 微米厚的鈦膜上面覆蓋約 30±5 微米厚的結構化金層組成。鈦膜對 X 射線幾乎透明，而覆蓋金的區(qū)域是X射線不透的。膜被固定在一個鋁框架上，以保持平整并提供機械保護。測試結構可以被放置在 X 射線光學裝置的光路中，用于驗證光學元件的狀態(tài)。
多功能X射線光束測試卡包括 23 個方形開口（紅色方框A內）以及左上角的兩個矩形狹縫結構（紅色方框B內）（見下圖 2）。方形開口（紅色方框A內）的邊長分別為：5, 8, 10, 12, 15, 20, 35, 37, 49, 60, 68, 81, 105, 129, 157, 200, 250, 300, 400, 500, 600, 750, 1000 (μm)。在 1 毫米方形開口區(qū)域內，如果移除了鈦膜，可見光可以穿過膜。這為調整測試卡提供了便利。
每個矩形狹縫（B）的尺寸為 100 微米 x 5 微米。矩形狹縫中心的間距為：6 微米、10 微米、12.5 微米、15 微米、17.5 微米、20 微米、30 微米、40 微米、50 微米、66 微米、80 微米、100 微米和 125 微米。圖中所有尺寸的公差為 ±1 微米。
提供客戶要求（設計，吸收體高度，尺寸等）進行定制。
