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極紫外/X射線波前分析孔陣列

極紫外/X射線哈特曼波前傳感器板

帶有方孔陣列的Si、Au或Diamond哈特曼波前傳感器板可以用與X射線、極紫外的FEL和同步輻射的波前檢測。

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帶有方孔陣列的Si、Au或Diamond哈特曼波前傳感器板可以用與X射線、極紫外的FEL和同步輻射的波前檢測。 


規(guī)格參數(shù):

典型加工能力

參數(shù)

典型值

加工極限

材料

10 μm Si薄膜

Si, Au, W

深寬比

10

>30

面積

薄膜: 4.5 mm x 4.5 mm

> 10 mm x 10 mm


加工示例

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司    北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

  2維硅孔(間距:25mm,孔:12.5mm)                                                 2維硅孔(間距:30mm,孔:3mm)      


北京眾星聯(lián)恒科技有限公司     北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

金孔陣列(間距:60mm,孔:3,4,5微米,金厚度:~95mm


北京眾星聯(lián)恒科技有限公司      北京眾星聯(lián)恒科技有限公司        北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

金孔陣列(間距:孔:5.8微米,金厚度:~45mm


典型應(yīng)用

  • 自由電子激光波前檢測

  • 同步輻射波前檢測


參數(shù)

典型值

加工極限

材料

10 μm Si薄膜

Si, Au, W

Aspect ratio

10

>30

Area

薄膜: 4.5 mm x 4.5 mm

> 10 mm x 10 mm


  • 自由電子激光波前檢測

  • 同步輻射波前檢測

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