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極紫外/X射線菲涅爾波帶片

13.5nm菲涅爾波帶片

襯度材料:SiO2 襯度材料厚度:~250nm支撐薄膜材料:Si支撐薄膜厚度:~200nm支撐薄膜透過率: 預計衍射效率>14% @13.5nm主要應用方向:相干衍射成像掩模版檢測

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襯度材料:SiO2 

襯度材料厚度:~250nm

支撐薄膜材料:Si

支撐薄膜厚度:~200nm

支撐薄膜透過率:~70%


預計衍射效率>14% @13.5nm


典型應用:

  • 相干衍射成像

  • 掩模版檢測

  • EUV顯微成像

  • 角分辨光電子能譜



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