眾星聯(lián)恒-前沿視界 - EUV&X射線行業(yè)洞察
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盡管全球科技格局面臨諸多不確定性,未來的世界也許是割裂的,但是尖端技術(shù)的火種始終在文明長(zhǎng)河中始終會(huì)奔涌不息。極紫外(EUV)與X射線技術(shù)作為突破物理極限的關(guān)鍵領(lǐng)域,正在推動(dòng)基礎(chǔ)科學(xué)、半導(dǎo)體、精密檢測(cè)等行業(yè)的深刻變革。
作為深耕極紫外(EUV)及X射線核心部件領(lǐng)域的技術(shù)服務(wù)商和解決方案的探索者,眾星聯(lián)恒始終以"技術(shù)瞭望者"的視角,捕捉全球最新的行業(yè)資訊和技術(shù)前沿動(dòng)態(tài)。
來自德國(guó)馬克斯·玻恩研究所和柏林工業(yè)大學(xué)的Pritha Dey和Stefan Eisebit等研究人員在APL Photonics 發(fā)表了一篇名為:“Above-mJ optical parametric chirped pulse amplifier at 3 μm for laser-driven coherent soft x-ray generation beyond the water window”的文章。該文章同時(shí)還被選為編輯精選。

在本研究中,研究人員破了中紅外OPCPA系統(tǒng)的極限,在3μm(10 kHz)處實(shí)現(xiàn)了>1 mJ的脈沖能量。這些脈沖是朝著在實(shí)驗(yàn)室裝置中通過高次諧波(HHG)產(chǎn)生水窗口外(500-900 eV)相干軟X射線邁出的關(guān)鍵一步,為在3d金屬磁二向色性L吸收邊進(jìn)行超快成像和光譜研究開辟了新的可能性。
文章鏈接:https://doi.org/10.1063/5.0254045
來自美國(guó)科羅拉多大學(xué)的Drew Morril,Will Hettel,Daniel Carlson,Benjamin Shearer研究人員及其他來自英國(guó)和挪威的合作者一起在arxiv預(yù)先發(fā)表了一篇名為:“Soft X-ray high-harmonic generation in an anti-resonant hollow core fiber driven by a 3 μm ultrafast laser”的研究文章。
由中紅外飛秒激光器驅(qū)動(dòng)的高次諧波上轉(zhuǎn)換可在桌面級(jí)裝置中產(chǎn)生相干軟X射線光束。文章報(bào)道了一種緊湊型鐿泵浦光參量啁啾脈沖放大器 (OPCPA) 激光系統(tǒng),該系統(tǒng)采用全光纖前端作為種子源,并采用周期極化鈮酸鋰 (PPLN) 非線性介質(zhì),工作在接近目前市售 PPLN 晶體脈沖能量極限的水平。

該 OPCPA 可在 1 kHz 重復(fù)頻率下輸出波長(zhǎng)為 3 μm、能量為 775 μJ 的脈沖,脈沖寬度達(dá)到變換極限的 120 fs,光束質(zhì)量達(dá)到衍射極限,并在超過 18 小時(shí)內(nèi)保持 0.33% 均方根值的超高能量穩(wěn)定性。利用該激光器,研究人員將氬氣中的軟X射線高次諧波(HHG)聚焦到低損耗、高壓充氣反諧振空芯光纖(ARHCF)中,產(chǎn)生光子能量高達(dá)氬L邊(250 eV)和碳K邊(284 eV)的相干光,光束質(zhì)量高,能量穩(wěn)定性約為1% rms。
文章鏈接:https://doi.org/10.48550/arXiv.2504.01112
來自俄羅斯的科研人員Mikhail Sorokovikov等在Nanobiotechnology Reports發(fā)表一篇名為:“2D X-ray Focusing Device Based on Silicon Planar Refractive Lenses”的研究文章。
該研究小組使用電子束光刻和深度離子蝕刻技術(shù)加工了硅平面CRL鏡子,并在庫(kù)爾恰托夫研究所的RKFM光束線進(jìn)行了聚焦性能測(cè)試,其中使用了眾星聯(lián)恒合作伙伴捷克RITE公司的高分辨X射線相機(jī)對(duì)聚焦光斑的尺寸及強(qiáng)度分布進(jìn)行分析。

文章鏈接:https://doi.org/10.1134/S2635167624602389
全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備制造商-LASERTEC憑借高亮度EUV等離子光源“URASHIMA”的研發(fā)成果,榮獲日本激光學(xué)會(huì)頒發(fā)的第十七屆激光產(chǎn)業(yè)杰出獎(jiǎng)。

“URASHIMA”是一種激光等離子體(LPP)光源,通過向高速旋轉(zhuǎn)的液化錫發(fā)射激光脈沖來產(chǎn)生EUV光。其設(shè)計(jì)針對(duì)光化學(xué)圖案化掩模檢測(cè)(APMI)工具“ACTIS”的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了優(yōu)化,以最大限度地減少熱負(fù)荷并防止薄膜受損,同時(shí)實(shí)現(xiàn)高亮度穿透薄膜掩模的檢測(cè)。激光產(chǎn)業(yè)獎(jiǎng)旨在表彰那些通過開發(fā)、實(shí)際應(yīng)用和傳播激光產(chǎn)品和技術(shù),為日本激光相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展做出杰出貢獻(xiàn)的人士。
自2025年2月17日起,物理學(xué)家、荷蘭ARCNL小組負(fù)責(zé)人Oscar Versolato 被任命為極紫外等離子體過程教授。他的職位隸屬于阿姆斯特丹自由大學(xué)(Vrije Universiteit Amsterdam)的物理與天文學(xué)系。

(Oscar Versolato 教授照片)
Oscar Versolato 于2011年獲得荷蘭格羅寧根大學(xué)博士學(xué)位,研究方向?yàn)榧す夤庾V學(xué),主要針對(duì)被捕獲的短壽命鐳離子。他在德國(guó)海德堡的馬克斯·普朗克核物理研究所進(jìn)行了博士后研究,研究?jī)?nèi)容包括高電荷離子的光譜學(xué)與激光共振冷卻(與布倫瑞克的PTB合作),以及分子離子(與奧胡斯大學(xué)合作)的研究。自2014年起,Versolato開始在ARCNL從事源研究工作。自2019年起,他擔(dān)任ARCNL極紫外等離子體過程小組的終身組長(zhǎng),并且是阿姆斯特丹自由大學(xué)的副教授。他目前的研究興趣包括極紫外輻射的等離子體源、激光脈沖撞擊后液滴形變與碎裂、高電荷離子的物理以及光譜學(xué)等領(lǐng)域。Versolato曾獲得2016年NWO Vidi研究資助、2018年ERC Starting grant和2022年ERC Consolidator grant。他是ARCNL源部門的負(fù)責(zé)人,并且是ARCNL及阿姆斯特丹自由大學(xué)管理團(tuán)隊(duì)的一員。
Intel前CEO Pat Gelsinger獲得了xLight執(zhí)行主席的新職位

ASML最新600W極紫外光源
2025年2月來自荷蘭ASML公司的Qiushi Zhu在SPIE 先進(jìn)光刻技術(shù)大會(huì)上,展示了ASML EUV 光源性能的最新成果-下一代 >600W 的 EUV 光源,并有望實(shí)現(xiàn) >1000W 的功率。
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