Talint EDU: 模塊化、高性?xún)r(jià)比的X射線相襯、暗場(chǎng)成像套件

X射線相位襯度成像和傳統(tǒng)的X射線吸收成像相比，X射線相位襯度成像能夠?yàn)檩p元素樣品提供更高的襯度，特別適合用于對(duì)軟組織和輕元素構(gòu)成的樣品進(jìn)行成像。

目前，主要的5類(lèi)相襯成像方式中，大部分對(duì)光源的相干性要求極高，只能在同步輻射光源或者借助微焦點(diǎn)X射線源實(shí)現(xiàn)。而光柵法相襯成像，經(jīng)過(guò)十多年的發(fā)展，已經(jīng)成為在實(shí)驗(yàn)室實(shí)施相襯成像實(shí)驗(yàn)的主流技術(shù)路線。

但是，高深寬比和大視場(chǎng)光柵的制作一直是困擾研究人員的一個(gè)痛點(diǎn)，LIGA技術(shù)的出現(xiàn)及成熟，使得制作此類(lèi)的光柵的制作變得更加的容易及可靠。

基于X射線相襯成像的光柵利用Talbot自成像效應(yīng)來(lái)獲取有關(guān)X射線因折射和散射而產(chǎn)生的微小角度偏轉(zhuǎn)的信息。這在醫(yī)學(xué)成像到材料研究等各個(gè)領(lǐng)域都有潛在的應(yīng)用。

但是對(duì)于剛進(jìn)入這一研究領(lǐng)域的科研工作者或者想單純快速相襯圖片的用戶(hù)來(lái)說(shuō)，繁瑣的光柵參數(shù)模擬、全新開(kāi)模制作光柵價(jià)格昂貴、與此同時(shí)精密平移臺(tái)的選擇及精密調(diào)節(jié)都將耗費(fèi)大量的精力。

為了解決的這個(gè)問(wèn)題，德國(guó)microworks公司推出了一套模塊化、高性?xún)r(jià)比的X射線相襯、暗場(chǎng)成像套件

TALINT EDU

Microworks的TALINTEDU系統(tǒng)是一種緊湊、物美價(jià)廉的TALbot干涉儀套件。它是X射線Talbot-Lau干涉儀的巧妙簡(jiǎn)化形式，包括所有必要的硬件來(lái)建立和微調(diào)干涉儀，以及通過(guò)相位步進(jìn)步驟來(lái)獲得三種成像模式應(yīng)用：吸收成像、相襯成像和暗場(chǎng)成像。

在不到半小時(shí)的時(shí)間內(nèi)，它可以像另一個(gè)探測(cè)器一樣容易安裝。 對(duì)于這個(gè)簡(jiǎn)化的系統(tǒng)來(lái)說(shuō)圖 像采集是手動(dòng)的，在相位步進(jìn)過(guò)程中獲得的圖像非常適合于圖像分析科學(xué)家。