依托尖端設(shè)備和豐富的經(jīng)驗(yàn)，我們能夠?yàn)榭蛻籼峁脑O(shè)計(jì)到成品的一站式解決方案，涵蓋電子束光刻、激光直寫、X射線光刻、雙光子聚合、極紫外激光干涉光刻、紫外光刻、電鍍等多種核心技術(shù)。產(chǎn)品線包括菲涅耳波帶片、納米級光柵、金剛石光學(xué)器件、納米分辨率測試卡、3D分辨率測試卡等。菲涅耳波帶片分辨率可低至<10nm，憑借獨(dú)特的 Ir-線倍增技術(shù)，可以獲得精確到 5nm 的 X 射線束聚焦。

雙光子聚合

雙光子灰度光刻是一種基于非線性光學(xué)效應(yīng)的微納加工技術(shù)。其原理是利用高強(qiáng)度飛秒激光，使材料中的光敏分子同時(shí)吸收兩個(gè)低能量光子（總能量等于單光子吸收的能量），從而引發(fā)聚合反應(yīng)。由于雙光子吸收僅發(fā)生在激光焦點(diǎn)處的高能密度區(qū)域，能夠通過逐層構(gòu)建實(shí)現(xiàn)復(fù)雜形狀的高精度制造。因此可以實(shí)現(xiàn)三維精密結(jié)構(gòu)的制造。

Nanoscribe GT 設(shè)備

• 全3D制造能力，最小特征尺寸小于200nm。

• 支持多種材料，包括可選鋁氧化物涂層以提高分辨率和對比度。

• 從設(shè)計(jì)到成品的一站式服務(wù)

Nanoscribe Quantum X 設(shè)備

• 最新技術(shù)，結(jié)合灰度光刻的卓越性能與雙光子聚合（2PP）的精度和靈活性。

• 無掩模光刻系統(tǒng)，適合各種2.5D結(jié)構(gòu)的工業(yè)制造。

典型應(yīng)用

• 表面圖案、平面微光學(xué)器件（包括自由曲面透鏡和微透鏡陣列）。

• 多級衍射光學(xué)元件。

示例微結(jié)構(gòu)

• 高縱橫比微透鏡陣列：50μm

• 菲涅爾透鏡：100μm